半導體 製程 氨
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相對溼度變化對於QCM氨氣感測器之影響
https://ndltd.ncl.edu.tw
論文摘要氨氣( ammonia, NH3(g) ) 為半導體製程中一重要氣體，因其具高逸散性，容易微量存在於無塵室空氣之中，而影響對於鹼性氣態汙染物( molecular base, MB ) 敏感的微影製程( Lithography )。
半導體廠含氮鹼性化合物的直讀監測技術
https://www.tiri.narl.org.tw
含氮鹼性化合物如氨、有機胺和NMP 對半導體廠之顯影製程的影響，如T-topping 和光學. 儀器鏡面的霧化，甚至對化學性增強光阻之效能的影響，進而造成晶圓的致命缺陷，嚴重地.
首創氨氮廢水再製為再生原料・循環台灣基金會
https://circular-taiwan.org
台積公司針對晶圓製程所產生的廢硫酸及氨氮廢水，主動開發「廢硫酸及氨氮廢水前處理系統」，以廠內再生後之廢硫酸為吸收劑，與氨氮廢水結合轉製為硫酸銨廢液。此舉不僅符合 ...
半導體製造中氨分子空氣污染的監測
https://www.horiba.com
- NH3 監測儀-. 空氣中的分子污染物(AMC) 會導致現代半導體生產中的產品品質問題，即使濃度極低也是如此。隨著20 世紀90 年代化學增強抗蝕劑的引入，AMC 首次成為一個問題。
消滅有毒氨氣半導體新製程降低成本更環保
https://www.technice.com.tw
來自名古屋大學的研究團隊開發了氮化鎵（GaN）晶體的新生長方法，利用電漿（等離子體）產生活性氮取代傳統MOCVD製程中的有毒氨氣，能夠提高GaN晶體品質。
濕式化學品在半導體製程中之應用
https://www.materialsnet.com.t
APM 製程是以NH 4. OH: H. 2. O. 2. :H. 2O=0.05~1:1:5的體積比在70°C下. 進行，由於氨水的沸點較低，且APM步. 驟容易造成表面微粗糙的現象，因此氨. 水與雙氧水濃度比例的 ...
提供高科技產業安全的廢氣排放系統
https://www.das-ee.com
CVD製程在半導體產業是用來生產含有多種金屬、氮化矽、二氧化矽和多晶矽成分的合成薄膜，而此製程中最常使用的氣體為矽烷、氨 ... 按照生產流程，半導體晶片的製程中需經過晶圓 ...
氣提塔氨廢水自動化處理系統
https://longzhong.com.tw
氣提塔是用於脫除廢水中的氨氣的設備。將含氨氮廢水於鹼性條件下操作，利用與氣流互相接觸，將氨由廢液中分離出氣態氨，與硫酸結合成硫酸銨後再採別的系統處理回收。
亞氨氨氣回用主打ESG減碳
https://tw.stock.yahoo.com
另一項更大應用為晶圓廠的APM清洗晶圓製程中使用電子級氨水，目前已有美商半導體晶圓廠在建置將原先須經高溫觸媒分解的低濃度氨氣（水）予已回收，再製成20％ ...
亞氨科技
https://www.yaan.com.tw
亞氨科技致力研發半導體氨氣、氨水回用領域，兩年內已取得兩岸5項氨水提濃發明、6項新式分解、回用專利，全球首套純氨回用系統即將在第2季在隆達電子商轉，純氨回用技術 ...